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日经BP社2005年12月12日报道 在日前举办的“SEMICON Japan 2005”展会上，相继公布了使用开口数（NA）超过1的液浸ArF曝光设备进行实际曝光的结果。尼康和荷兰ASML（ASM Lithography）公司分别做了报告。
尼康首次公开了在NA为1.07的“NSR-S609B”上结合使用偶极照明和偏光照明“POLANO”，对47nm转盘间隔进行成像的结果。通过使用改良
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