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海外硬科技龙头复盘研究系列之七：电子行业深度：筚路蓝缕，如何看待全球光刻胶龙头TOK的成长之路？
- 2024-07-17 20:15:33上传人：沧海**为水
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投资摘要：光刻是半导体微纳加工的核心工艺，光刻胶是半导体材料皇冠上的明珠。光刻胶按照显影效果可分为正性光刻胶和负性光刻胶，正性光刻胶的应用更为广泛。光刻胶的原料包括光引发剂、树脂、溶剂、单体及其他助剂等。光刻胶单体工艺难度大，认证周期长，进入壁垒高。除上游原材料壁垒外，半导体光刻胶国产化还具有配方、
- 1. 光刻胶 —— 半导体材料皇冠上的明珠
- 2. 复盘全球光刻胶巨头 TOK 成长之路，我们得到了哪些启示？
- 2.1 实现精益化管理、深化全球化战略是成功的关键所在
- 2.2 TOK 公司善于利用日本本土设备方面的优势，把握住了两次行业大机遇，实现二次腾飞
- 3. 高端光刻胶国产化迫在眉睫
- 4. 投资建议
- 5. 风险提示
- 相关报告汇总
- 插图目录
- 图 1： 光刻工艺流程
- 图 2： 正性光刻胶和负性光刻胶的区别
- 图 3： 光刻胶核心成分为树脂，成本占比为 50%
- 图 4： 单体 —树脂 —光刻胶流程
- 图 5： 光刻胶种类及应用范围
- 图 6： 不同波长的半导体光刻胶组分存在较大差异
- 图 7： 光刻胶研发成本中光刻机设备及安装费用占比最大
- 图 8： 光刻胶产品验证周期较长
- 图 9： 全球光刻胶市场由日美韩等企业占主导，东京应化市场份额最高
- 图 10： 光刻胶发展路径与 TOK 发展历程
- 图 11： 2022 年 TOK 产品结构
- 图 12： 2023 年 TOK 产品结构
- 图 13： 光刻胶市场 规模及 TOK 市场份额
- 图 14： 东京应化材料业务持续增长， 4年净销售额增幅 72% ，2022 年达 1703.29 亿日元
- 图 15： 光刻胶发展路径与 TOK 发展历程
- 图 16： 近年来 东京应化海外营收占比提升至 82.2%
- 图 17： 亚太地区是东京应化主要市场
- 图 18： 光刻胶纯化技术成为重中之重
- 图 19： 东京应化公司抓住两次行业大机遇，实现了二次腾飞
- 图 20： 光刻胶材料业务与设备业务具备强大的协同效应
- 图 21： 下游需求旺盛，给 TOK 公司提供了成长的沃土
- 图 22： AI 行业变革进一步拉动光刻胶行业市场规模增长
- 图 23： 国内晶圆厂产能不断扩展，为国产半导体光刻胶国产化提供了沃土
- 图 24： 全球半导体光刻胶市场不断增长，预计 2027 年市场规模超 28 亿美元
- 图 25： ArF 光刻胶市场占比最高， ArFi+ArF 光刻胶占全球光刻胶市场规模的比例为 48.1%
- 图 26： 低端光刻胶国产自给率较高，高端光刻胶基本依赖进口
- 图 27： 南大光电 ArF 光刻胶已取得认证并销售
- 东兴证券 深度 报告
- 电子 行业深度 ：筚路蓝缕，如何看待全球光刻胶龙头 TOK 的成长之路？ P 3
- 敬请参阅报告结尾处的免责声明 东方财智 兴盛之源
- 图 28： 华懋科技半导体光刻胶取得技术突破
- 图 29： 容大感光 全面布局 PCB 、LCD 和半导体光刻胶
- 表格目录
- 表 1： 光刻胶按照显影效果可分为正性光刻胶和负性光刻胶
- 表 2： 光刻胶组分及功能
- 表 3： 不同类型光刻胶使用树脂不 同
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